Asetilen kaynağının çalışma prensibi nedir?
Oksi-asetilen kaynağında kaynak havuzu, oksijen-yanıcı gaz veya hava-yanıcı gaz karışımının lokal etkisi ile oluşur. Bu egzotermik reaksiyondur. Yüksek alev sıcaklığı (3200 °C) aynı zamanda yüksek birincil alev verimi (17,4 ) nedeniyle tek yanıcı gaz olarak asetilen kullanılmaktadır.
Oksi-asetilen kaynağında kaynak havuzu, oksijen-yanıcı gaz veya hava-yanıcı gaz karışımının lokal etkisi ile oluşur. Bu egzotermik reaksiyondur. Yüksek alev sıcaklığı (3200 °C) aynı zamanda yüksek birincil alev verimi (17,4 ) nedeniyle tek yanıcı gaz olarak asetilen kullanılmaktadır.